至纯科技获得发明专利授权：“一种用于氮化硅选择性蚀刻的清洗蚀刻系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示至纯科技（603690）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种用于氮化硅选择性蚀刻的清洗蚀刻系统”，专利申请号为CN202111651889.6，授权日为2025年9月9日。

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专利摘要：本发明提供一种用于氮化硅选择性蚀刻的清洗蚀刻系统，涉及半导体技术领域，包括：清洗模组；高温溶液供应模块；高温溶液回收模块；多个常温溶液供应模块，每个常温溶液供应模块包括供应单元和回收单元；总控模块控制高温溶液供应模块向清洗模组提供沸腾的磷酸水溶液对晶圆进行蚀刻，以及控制补水模块向高温溶液供应模块输送超纯水；控制高温溶液回收模块由清洗模块回收磷酸水溶液，并将磷酸水溶液进行过滤后输送回高温溶液供应模块；控制供应单元向清洗模块提供常温的清洗溶液对晶圆进行清洗，以及控制回收单元由清洗模块回收清洗溶液并输送回供应单元。有益效果是有效满足氮化硅选择性蚀刻的需求，保证清洗蚀刻过程中的安全性且有效节约成本。

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今年以来至纯科技新获得专利授权31个，较去年同期增加了63.16%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了1.18亿元，同比增17.59%。

通过天眼查大数据分析，上海至纯洁净系统科技股份有限公司共对外投资了46家企业，参与招投标项目76次；财产线索方面有商标信息104条，专利信息315条，著作权信息28条；此外企业还拥有行政许可43个。

数据来源：天眼查APP

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