拓荆科技获得发明专利授权：“用于半导体工艺的气体混合装置及半导体工艺设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“用于半导体工艺的气体混合装置及半导体工艺设备”，专利申请号为CN202111522231.5，授权日为2025年9月19日。

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专利摘要：本发明揭露一种用于半导体工艺的气体混合装置，其从上游端至下游端依序包含：一窄孔，界定于所述本体中且具有一上游端及一下游端；一缓冲空间，界定于所述本体中且具有一上游端及一下游端，所述缓冲空间的上游端流体连接至所述窄孔的下游端，且所述缓冲空间的宽度大于所述窄孔的宽度；及一分流板，具有一上表面及一下表面，所述分流板的上表面及下表面之间形成有多个分流孔，所述多个分流孔流体连接至所述缓冲空间的下游端。其特征在于，所述分流板的上表面形成有一凹穴，且所述凹穴正对所述窄孔的下游端，借此使通过所述窄孔的气流撞击所述凹穴的壁而形成湍流。此外，本发明还提供了一种半导体工艺设备。

今年以来拓荆科技新获得专利授权46个，较去年同期增加了84%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3.01亿元，同比减4.33%。

通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目98次；财产线索方面有商标信息110条，专利信息713条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可32个。

数据来源：天眼查APP

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